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等离子清洗机

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等离子清洗机

等离子清洗机概述

等离子清洗机也叫等离子清洁机,或者等离子表面处理仪,是一种全新的高科技技术,利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态,也叫做物质的第四态,并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,从而实现清洁、涂覆等目的。
线性(宽幅)等离子清洗机

线性(宽幅)等离子清洗机

品牌:诚峰智造
型号:CRF-APS-500W
PCE-8等离子清洗机

PCE-8等离子清洗机

品牌:沈阳科晶
型号:PCE-8
大气旋转等离子清洗机

大气旋转等离子清洗机

品牌:诚峰智造
型号:CRF-APO-RP1020-D
低压等离子设备

低压等离子设备

品牌:Diener
型号:Pico
Harrick等离子清洗机PDC-002

Harrick等离子清洗机PDC-002

品牌:美国Harrick
型号:PDC-002
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不限 中国大陆 大洋洲欧洲亚洲美洲
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不限 生产商授权代理商一般经销商
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CPC-A型等离子清洗机

CPC-A型等离子清洗机

  • 品牌: 美国赛福
  • 型号: CPC-A
  • 产地:美国
  • 采用美国霍尼韦尔真空压力传感器,性能稳定可靠; 采用美国气体浮子流量计,流量显示准确; 独特双路气体控制方式,气体控制更加稳定; 弧形电极板设计,清洗更完全; 舱体、管路、阀体全部采用优质不锈钢材质,防腐不生锈; 手动、自动两种工作模式,可根据客户需求任意切换; 触摸按键+4.3寸大屏幕彩色液晶显示屏设计,显示清晰,操作简单; 智能程序化控制,可编程自动完成整个实验过程; 无需任何耗材,使用成本低; 无需特殊进行维护,在日常使用过程中保持仪器清洁即可; 整机保修一年。

CPC-B美国CIF等离子清洗机

CPC-B美国CIF等离子清洗机

  • 品牌: 美国赛福
  • 型号: CPC-B
  • 产地:美国
  • 等离子清洗机等离子清洗机采用气体作为清洗介质,有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。等离子清洗机外接一台真空泵,工作时清洗腔中的等离子体柔柔冲洗被清洗物的表面,短时间的清洗就可以使有机污染物被彻底地清洗掉,同时污染物被真空泵抽走,其清洗程度达到分子级。等离子清洗器除了具有超清洗功能外,在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能,等离子体作用于材料表面,使表面分子的化学键发生重组,形成新的表面特性。对某些有特殊用途的材料,在超清洗过程中等离子清洗器的辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和浸润性,并可消毒和杀菌。等离子清洗器广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。等离子清洗机的清洗分类:  反应类型分类        等离子体与固体表面发生反应可以分为物理反应(离子轰击)和化学反应。物理反应机制是活性粒子轰击待清洗表面,使污染物脱离表面zui终被真空泵吸走;化学反应机制是各种活性的粒子和污染物反应生成易挥发性的物质,再由真空泵吸走挥发性的物质。        以物理反应为主的等离子体清洗,也叫做溅射腐蚀(SPE)或离子铣(IM),其优点在于本身不发生化学反应,清洁表面不会留下任何的氧化物,可以保持被清洗物的化学纯净性,腐蚀作用各向异性;缺点就是对表面产生了很大的损害,会产生很大的热效应,对被清洗表面的各种不同物质选择性差,腐蚀速度较低。以化学反应为主的等离子体清洗的优点是清洗速度较高、选择性好、对清除有机污染物比较有效,缺点是会在表面产生氧化物。和物理反应相比较,化学反应的缺点不易克服。并且两种反应机制对表面微观形貌造成的影响有显著不同,物理反应能够使表面在分子级范围内变得更加“粗糙”,从而改变表面的粘接特性。还有一种等离子体清洗是表面反应机制中物理反应和化学反应都起重要作用,即反应离子腐蚀或反应离子束腐蚀,两种清洗可以互相促进,离子轰击使被清洗表面产生损伤削弱其化学键或者形成原子态,容易吸收反应剂,离子碰撞使被清洗物加热,使之更容易产生反应;其效果是既有较好的选择性、清洗率、均匀性,又有较好的方向性。        典型的等离子体物理清洗工艺是氩气等离子体清洗。氩气本身是惰性气体,等离子体的氩气不和表面发生反应,而是通过离子轰击使表面清洁。典型的等离子体化学清洗工艺是氧气等离子体清洗。通过等离子体产生的氧自由基非常活泼,容易与碳氢化合物发生反应,产生二氧化碳、一氧化碳和水等易挥发物,从而去除表面的污染物。  激发频率分类  等离子态的密度和激发频率有如下关系:  nc=1.2425×108v2  其中nc为等离子态密度(cm-3),v为激发频率(Hz)。  常用的等离子体激发频率有三种:激发频率为40kHz的等离子体为超声等离子体,13.56MHz的等离子体为射频等离子体,2.45GHz的等离子体为微波等离子体。  不同等离子体产生的自偏压不一样。超声等离子体的自偏压为1000V左右,射频等离子体的自偏压为250V左右,微波等离子体的自偏压很低,只有几十伏,而且三种等离子体的机制不同。超声等离子体发生的反应为物理反应,射频等离子体发生的反应既有物理反应又有化学反应,微波等离子体发生的反应为化学反应。超声等离子体清洗对被清洁表面产生的影响zui大,因而实际半导体生产应用中大多采用射频等离子体清洗和微波等离子体清洗。等离子清洗机应用领域:      包装行业:专业针对UV OPP PP PET金银卡 磨光,覆膜纸盒或纸箱上胶前的表面处理,经等离子处理后,可增加糊盒的牢固性,摆脱开胶烦恼。并可减少胶水使用量,有效降低成本。  印刷及喷码行业:塑料 玻璃 金属 复合材料等表面丝印,移印前等离子预处理,可提高材料表面对油墨的吸附力,渗透力。IC卡 标签,日化用品容器。电线喷码前等离子预处理,提高油墨吸附力。  塑料行业:塑料与塑料,橡胶,金属,玻璃等粘结前预处理,可提高表面的粘结性能。手机电脑玩具等塑料外壳喷漆前预处理,提高油漆的附着力,防止掉漆。  日用品及家电行业:日用主家电产品在生产过程中的涂装,粘接等工艺,使用等离子预处理提高材料表面的加工性能,提高粘接和涂装的品质,别外等离子清洗作用使溶剂清洗不再需要,即环保又节省了大量的清洗干燥时间。  汽车行业: 1、EPDM胶条在喷涂润滑涂层或植绒胶水以前的预处理工艺,借助等离子技术,胶条的预处理过程变得更加稳定高效,而且没有磨损。 2、汽车车灯粘接,刹车片,雨刮,引擎控制器盖,汽车仪表,汽车保险杠等等都可使用等离子表面处理,清洁,活化部件的表面,增强表面的粘结力,吸附力。 3、汽车部件喷漆前的表面活化,使用等离子处理,水性涂装体系都可以做到无需底漆。 4、电子行业:电子元器件加工的等离子预处理,PCB的清洗,去静电,LED支架,晶圆,IC等的清洁或是粘结等作用。 5、其它行业:化纤 纺织,航天航空,卷材涂装等等。  电子行业:半导体材料光刻  胶清洗:光学材料镀膜,加硬前清洗。  LCD玻璃印刷,贴合,封装前清洗,LED点银胶,引线键合,封胶前清洗,可提升产品质量。  PCB电路板孔化,除渣,绑定处理,可提升镀铜结合力和焊接成功率。  橡胶塑料行业:提高材料粘接强度以及印刷油墨,涂层,镀层附着力。  纤维纺织行业:生产电池用无纺布隔膜,水处理用中空纤维及各种天然纤维,合成纤维经等离子处理可改善和提高其渗透性,亲水性,印染性等多种功能。精密仪器,机械及电器制造:继电器触点氧化层去除,精密零件表面油污,助焊剂等有机物清洗。电子点火器线圈骨架灌封环氧树脂前处理提高其粘接性及结合力。  生物医用材料:聚笨乙稀酶标板经等离子接枝处理,引入醛基,氨基,环氧基等活性官能团,可把酶牢牢地固定在载体上面,提高酶的固定;细胞培养皿,经等离子处理后,大大提高了贴壁培养细胞的能力。 生物传感器的电极碳膜经过等离子活化,提高了酶和抗体固定的稳定性,实现电极重复使用。 血液过滤器的内壁和滤芯都需要等离子体的抗血凝处理,以提高其过滤能力和使用寿命。CPC-B美国CIF等离子清洗机产品特点:v 采用美国霍尼韦尔真空压力传感器,性能稳定可靠;v 采用美国气体浮子流量计,流量显示准确;v 独特双路气体控制方式,气体控制更加稳定;v 弧形电极板设计,清洗更完全;v 舱体、管路、阀体全部采用优质不锈钢材质,防腐不生锈;v 手动、自动两种工作模式,可根据客户需求切换;v 触摸按键+4.3寸大屏幕彩色液晶显示屏设计,显示清晰,操作简单;v 智能程序化控制,可编程自动完成整个实验过程;v 无需任何耗材,使用成本低;v 无需特殊进行维护,在日常使用过程中保持仪器清洁即可;v 整机保修一年。CPC-B美国CIF等离子清洗机技术参数:

美国CIF等离子清洗机CPC-A-13.56

美国CIF等离子清洗机CPC-A-13.56

  • 品牌: 美国赛福
  • 型号: CPC-A-13.56
  • 产地:北京
  • v 采用美国霍尼韦尔真空压力传感器,性能稳定可靠; v 采用美国气体浮子流量计,流量显示准确; v 独特双路气体控制方式,气体控制更加稳定; v 专利的弧形电极板设计,清洗更完全; v 舱体、管路、阀体全部采用优质不锈钢材质,防腐不生锈; v 手动、自动两种工作模式,可根据客户需求切换; v 触摸按键+4.3寸大屏幕彩色液晶显示屏设计,显示清晰,操作简单; v 智能程序化控制,可编程自动完成整个实验过程; v 无需任何耗材,使用成本低; v 无需特殊进行维护,在日常使用过程中保持仪器清洁即可; v 整机保修一年。

美国赛福等离子清洗机CPC-B-13.56

美国赛福等离子清洗机CPC-B-13.56

  • 品牌: 美国赛福
  • 型号: CPC-B-13.56
  • 产地:北京
  • 等离子清洗机CPC-B-13.56美国CIF公司所生产的等离子清洗机不仅外观设计美观、而且内在质量过硬,产品性能稳定可靠。主要核心部件全部采用原装进口。等离子清洗机CPC-B-13.56清洗原理:    等离子体是物质的一种存在状态,通常物质以固态、液态、气态三种状态存在,但在一些特殊的情况下有第四种状态存在,如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质:处于高速运动状态的电子;处于状态的中性原子、分子、原子团(自由基);离子化的原子、分子;未反应的分子、原子等,但物质在总体上仍保持电中性状态。    等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体,通过等离子体轰击被清洗产品表面,从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。等离子清洗机CPC-B-13.56应用领域:    等离子清洗机在科学研究各方面已经取得了广泛的运用,涉及材料学,光学,电子学,医药学,环境学  生物学等不同领域,主要用于以下实验:v 表面清洁  v 表面活化 v 键合 v 去胶 v 金属还原 v 简单刻蚀 v 器械的消毒v 去除表面有机物 v 疏水实验v 镀膜前处理等等离子清洗与传统湿法清洗九大优势:v 等离子体清洗技术的zui大特点是不分处理对象的基材类型,均可进行处理,对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理,并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗;v 等离子清洗是干性清洗,无需再次干燥处理,处理效率高;v 等离子清洗有效避免三氯乙烷等有害溶剂对人体的伤害,同时也避免了湿法清洗对样品的损坏;v 等离子清洗不会产生有害污染物,绿色环保无污染;v 等离子清洗更完全,不会因为清洗样品的形状和角度清洗不干净;v 等离子清洗效率高,几分钟内即可完成;v 等离子清洗设备成本低,由于不使用价格昂贵的有机溶剂,所以整体成本低于传统的湿法清洗;v 等离子清洗清洁卫生,避免了对清洗液的运输、存储、排放等处理措施;v 等离子体清洗可改善材料本身的表面性能。如提高表面的润湿性能、改善膜的黏着力等。等离子清洗机CPC-B-13.56产品特点:v 采用美国霍尼韦尔真空压力传感器,性能稳定可靠;v 采用美国气体浮子流量计,流量显示准确;v 独特双路气体控制方式,气体控制更加稳定;v 弧形电极板设计,清洗更完全;v 舱体、管路、阀体全部采用优质不锈钢材质,防腐不生锈;v 手动、自动两种工作模式,可根据客户需求切换;v 触摸按键+4.3寸大屏幕彩色液晶显示屏设计,显示清晰,操作简单;v 智能程序化控制,可编程自动完成整个实验过程;v 无需任何耗材,使用成本低;v 无需特殊进行维护,在日常使用过程中保持仪器清洁即可;v 整机保修一年。等离子清洗机CPC-B-13.56技术参数:序号型号CPC-ACPC-BCPC-A-13.56CPC-B-13.561舱体尺寸300XΦ100mm 300XΦ150mm 300XΦ100mm 300XΦ150mm2舱体容积2.6L5.2L2.6L5.2L3射频频率40KHz13.56MHz4射频功率10-200W无极可调10-150W无极可调5电 源220V 50/60HZ220V 50/60HZ6电 流1.2A1.2A7时间设定1-99分59秒1-99分59秒8气体稳定时间1分钟1分钟9真空度100pa以内100pa以内10激发方式电容式电容式11外形尺寸L*W*H 460X580X220mm520X580X285mm460X580X220mm520X580X285mm12整机重量15Kg20Kg18Kg25Kg ​

美国Harrick等离子清洗机PDC-002-HP

美国Harrick等离子清洗机PDC-002-HP

  • 品牌: 美国Harrick
  • 型号: PDC-002-HP
  • 产地:美国
  • Harrick等离子体清洗机除了具有超清洗功能外,在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能:Harrick等离子体清洗机的等离子体作用于材料表面,使表面分子的化学键发生重组,形成新的表面特性。Harrick等离子体清洗机对某些有特殊用途的材料,在超清洗过程中等离子体清洗机的辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和浸润性,并可消毒和杀菌。Harrick等离子体清洗机广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。Harrick等离子体清洗机的应用范围:* 清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。* 清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。* 移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。* 清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。* 清洗半导体元件、印刷线路板。* 清洗生物芯片、微流控芯片。* 清洗沉积凝胶的基片。* 高分子材料表面修饰。* 牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌。* 改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。 等离子体清洗机的产品特征:* 紧凑的台式设备、没有RF放射、符合CE安全标准。* 功率为低、中、高三档可调。基本型:PDC-32G-2清洗舱:长6.5英寸,直径3英寸;舱盖可拆卸。 整机尺寸:H216×W254×D200mm扩展型:PDC-002清洗舱:长6.5英寸,直径6英寸;舱盖具备铰链和磁力锁,并有一个可视窗口。整机尺寸:H279×W457×D229mm扩展型:PDC-002-HP清洗舱:长6.5英寸,直径6英寸;舱盖具备铰链和磁力锁,并有一个可视窗口。整机尺寸:H279×W457×D229mm等离子体清洗机除了PDC-32G-2 基础型和PDC-002 扩展型 两种常规机型的等离子体清洗机以外,我们还提供以下配件选项:PDC-FMG-2 PlasmaFlo气体混合器(230 V) PDC-VP-2 豪华版的真空泵230V (包含管子,管夹,进油转接头,中套环和变压管夹)PDC-VP-OIL 豪华版真空泵用油 PDC-VPE-2 基础型真空泵230V (包含管子和管夹) PDC-VPE-OIL 基础型真空泵用油 PDC-32T 石英样片(适用于PDC-32G-2 基础型等离子体清洗机)PDC-00Q石英样片(适用于PDC-002扩展型等离子体清洗机)PDC-32Q 石英舱体(适用于PDC-32G-2 基础型等离子体清洗机) PDC-191-420 可替换的派热克斯舱体Pyrex Chamber (适用于PDC-002扩展型等离子体清洗机)PDC-191-105可替换的派热克斯舱体Pyrex Chamber (适用于PDC-32G-2扩展型等离子体清洗机)PDC-191-111 可替换的前盖装置(适用于PDC-32G-2扩展型等离子体清洗机)PDC-FLB 可替换的荧光灯泡 (适用于射频检测)注:我们的设备配有115V和230V两种电压类型,缺省为230V电压,如果客户需要115V电压,请订购时特别注明。等离子体清洗机的功能:1.对金属、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有机污染物 (如石蜡、油污、脱膜剂、蛋白等)进行超清洗。2.改变某些材料表面的性能。3.使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化,加强这些材料的粘附性、相容性和浸润性。4.清除金属材料表面的氧化层。5.对被清洗物进行消毒、杀菌。等离子体清洗机的优点:  1.完全彻底地清除表面有机污染物。2.清洗快速、操作简便、使用和维护成本极低。3.非破坏性、对被清洗物表面光洁度无损害。4.绿色环保、不使用化学溶剂、无二次污染。5.常温条件下清洗,被清洗物的温度变化微小。6.能清洗各种几何形状、粗糙程度各异的表面。

Harrick基本型等离子清洗器

Harrick基本型等离子清洗器

  • 品牌: 美国Harrick
  • 型号: PDC-32G-2
  • 产地:美国
  • PDC-32G(115V); PDC-32G-2(230V) 紧凑型桌面单元 可调射频功率(低,中和高功率设置) 射频线圈最大功率 为18W 包括一个3英寸直径x 6.5英寸长Pyrex室 带观察窗的铰链门 主动风扇冷却 1/8“NPT计量阀,用于定性控制气体流量和腔室压力 1/8”NPT三通阀,可快速切换引入气体,排气和隔离腔室 重量:13 lbs 尺寸:8.5“H x 10“W×8”D

Harrick高功率型等离子清洗器

Harrick高功率型等离子清洗器

  • 品牌: 美国Harrick
  • 型号: PDC-002-HP
  • 产地:美国
  • PDC-001-HP(115V); PDC-002-HP(230V) 较大的桌面单元 可调RF功率(低,中和高功率设置) RF线圈的最大功率为45W 低射频功率设置相当于PDC-001 / PDC-002 包括一个6英寸直径x6.5英寸长的耐热玻璃室 带观察窗的铰链门 主动风扇冷却 用于真空泵的整体式开关 1/8“NPT计量阀,用于定性控制气体流量和腔室压力 1/8”NPT 3-三通阀可快速切换气体排出,隔离腔体和排气 重量:37磅 尺寸:11“高x 18”宽x 9“深

PVA TePla - 等离子清洗系统

PVA TePla - 等离子清洗系统

  • 品牌: 德国PVA TePla
  • 型号: 80 Plus HS / IoN Optim us 100
  • 产地:德国
  • 产品简介独有的微波等离子(化学)清洗方式有别于传统的射频等离子(物理)清洗方式,微波等离子清洗可以清洗到样品的每一个部位,实现清洗过程的自由基不会被障碍物所阻挡,并且不会改变表面的粗糙度。随着封装技术的进步,在倒装和叠晶片等封装中,射频等离子清洗并不能达到工艺要求,微波等离子清洗的特点和优势使得更多用户的选择和使用PVA TePla。等离子清洗在倒装芯片封装技术的已成为必须的过程, 提高产量。先进的倒装芯片设备在业界获得显着性,在穿透分钟的差距的模具下,微波等离子体过程是无与伦比的。根据不同模具的体积,所有表面均可被完全激活和控调。PVA TePla 的微波等离子体一向可执行,无空隙的倒装芯片底部填充胶,最佳的附着力和显着增强的吸湿排汗速度。适合程度的应用远远超出了芯片尺寸20x20mm和50μm以下的bumps。   PVA TePla等离子清洗系统在半导体的应用:Ø 射频等离子在IC封装的应用Ø 微波等离子在倒装芯片(Flip chip)工艺的应用80 Plus HS微波等离子系统是PVA TePla在微晶片封装方面提供的半导体业改革。80 Plus High Speed (HS)正在申请专利,对比与其他框架和基板片式处理等离子系统,该设备是世界上唯一一个单腔体支持片尺寸转换,运输和处理并提升了3倍UPH的设备。该系统针对大批量的芯片制造商在引线键合前、塑封前、倒装片底部填充前等应用中提升收率和可靠性。产量方面的业界新标准:• 高效率 • 支持 100x300mm 框架• 最高UPH达到900 strips/Hr80 Plus HS微波等离子系统* 即将推出新型的Inline等离子清洗系统,更高的UPH,更高的性价比。敬请期待PVA TePla 其它等离子清洗系统产品:!IoN Optimus 100射频等离子系统GIGA 690微波等离子系统80 Plus微波等离子系统除半导体外的其它应用:生命科学 (LIFE SCIENCE)气体等离子体(Gas Plasma)技术常用在精密清洗和激活,去污的表面,促进功能的生物分子的粘附和结合特定的化学蒸气灭菌的生物体内和体外的医疗设备。电子 (ELECTRONICS)等离子用于在电子工业中各种各样的应用程序,包括从密封剂和粘合剂的粘合促进,提高释放光盘母版压模上的物质。工业等离子体应用 (INDUSTRIAL PLASMA APPLICATIONS)PVA TePla 是微波等离子体处理用于制造微芯片、MEMS器件、光伏电池、平板显示器和探测器,和大多数工业应用的市场领导者。• 增进附着力(ADHESION PROMOTION)• 重要的清洁(CRITICAL CLEANING)IoN 100 等离子体系统IoN 100 是专为满足广大客户不断变化的需求而设计,它强调多功能性和控制他们的表面处理需求。其功能提供最先进的过程控制状态,故障安全系统报警和数据采集软件。这使系统在生命科学产业,以满足严格的质量控制程序。气体等离子体系统 - 等离子体笔Atmospheric Plasma System - Plasma Pen• 生命科学与医疗器械产品• 汽车、航天、航海方面• 芯片级器件• 电子产品包装• 平板显示器• 电线、电缆、光纤• 玻璃制造

PVA TePla America - 等离子表面清洗系统

PVA TePla America - 等离子表面清洗系统

  • 品牌: 德国PVA TePla
  • 型号: IoN 3B
  • 产地:德国
  • 产品简介全新!INLINE高产量PECVD系统 (Inline High Capacity PECVD Systems)ILHC是一个连续的高速真空等离子系统。它提供了等离子体辅助化学气相沉积(PECVD),蚀刻,清洗和活化在高生产环境全过程控制。ILHC是为了满足广大客户的高产能量的要求。它提供了快速的工艺处理时间,卓越的均匀性和精确的厚度控制。它提供先进的过程控制,故障安全报警和完整的数据采集和报告软件系统。ILHC使用射频(RF)产生的等离子体,结合独特的传送系统中清楚地阐明和完全集成封装。该设计便于安装和维护。特性:• 连续流处理• 定制托盘和基板夹具• 可配置的等离子源设计从小到大可扩展• 三维零件或超高容量小零件加工• 根据工艺要求,灵活地用RF功率发生器和AMU• GUI图形用户界面软件符合CFR第21部分11和Semi E95-1101• 自家开发的用户访问控制系统• 可准确地控制Lot-to-Lot的重复性• 通过以太网远程统计过程控制监控• 具即时诊断功能和警报记录• 配方编辑器提供了快速和灵活的步控制功能• 大LCD触摸设置,Windows®的控制面板和键盘• 免人手操作 可进行多种类界面 * 输出功率高达 :每月500,000 devices(基本尺寸 :1” x 1” Devices) * 根据界面的形状:非均匀性降低至5%  RF 射频等离子清洗/镀膜系统 IoN 3B 特性:腔室尺寸(W x D x H): 140mm x 200mm x 110mm功率: 100 Watts气体喷淋: Integrated door单个气体管路: Mass Flow Controller for gas control, 50 sccm可视窗口: 45mm dia.显示屏: 7" touch screen, PC Interface编程控制: Upto 10 receipies with 10 steps can压力测量: Pirani Gauge IoN 7B 特性:腔室尺寸(W x D x H): 200mm x 220mm x 160mm功率: 200 Watts气体喷淋: Integrated door单个气体管路: Mass Flow Controller for gas control, 100 sccm可视窗口: 45mm dia.显示屏: 7" touch screen, PC Interface编程控制: Upto 10 receipies with 10 steps can压力测量: Pirani Gauge

CIF CPC-A等离子清洗机

CIF CPC-A等离子清洗机

  • 品牌: 美国赛福
  • 型号: CIF CPC-A
  • 产地:美国
  • 等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体,通过等离子体轰击被清洗产品表面,从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。产品特点● 采用美国霍尼韦尔真空压力传感器,性能稳定可靠; ● 采用美国气体浮子流量计,流量显示准确; ● 独特双路气体控制方式,气体控制更加稳定; ● 舱体、管路、阀体全部采用优质不锈钢材质,防腐不生锈; ● 手动、自动两种工作模式,可根据客户需求任意切换; ● 触摸按键+4.3寸大屏幕彩色液晶显示屏设计,显示清晰,操作简单; ● 智能程序化控制,可编程自动完成整个实验过程; ● 无需特殊进行维护,在日常使用过程中保持仪器清洁即可;技术参数● 舱体的尺寸2758X110(直径)mm(295X150(直径)) ● 舱体容积:2.6L(5.2L) ● 射频频率:40KHz ● 设定时间 0-99分59秒 ● 气体稳定时间:1分钟 ● 等离子激发方式:电容式 ● 整机重量:15kg(20kg) ● 射频功率:10-200W无极可调 等离子清洗机在科学研究各方面已经取得了广泛的运用,涉及材料学,光学,电子学,医药学,环境学 生物学等不同领域,主要用于以下实验: ● 材料研究,表面改性达到亲水的效果; ● 材料研究,用于材料表面的改性,达到一个疏水的效果,俗称的荷叶效果; ● 材料老化的实验,主要以氧离子进行相关的工艺设计; ● 材料的键合,通过仪器处理,增加材料表面的亲和性,已达到快速键合的效果 ● 器械的消毒,消毒效果完美; ● 用于相关的镀膜实验。

DIENER PLASMA ATTO 等离子清洗机

DIENER PLASMA ATTO 等离子清洗机

  • 品牌: 德国Diener
  • 型号: ATTO
  • 产地:德国
  • 10.5 升的LOW-COST-PLASMA-LABORANLAGE ATTO 为手动型,配有 PC 和 PCCE 控制系统,主要用于以下领域:小批量生产分析 (REM, TEM)医疗技术灭菌研究和开发部门考古纺织技术塑料技术等离子设备 Atto,配有手动控制系统、等离子清洗器、等离子灰化器、等离子蚀刻机、等离子活化系统,用于小批量工艺研发、清洗、活化、蚀刻等离子设备 Atto,配有外部 PC 控制系统、等离子清洗器、等离子灰化器、等离子蚀刻机、等离子活化系统,用于小批量工艺研发、清洗、活化、蚀刻 - 等离子系统等离子设备 Atto,配有内置式 PC 控制系统、等离子清洗器、等离子灰化器、等离子蚀刻机、等离子活化系统,用于小批量工艺研发、清洗、活化、蚀刻 - 等离子系统系列Atto 手动控制Atto 外部PC控制Atto 集成PC控制控制系统手动型、通过模拟计时器测定工艺时间PC-控制系统 (Microsoft Windows XP)PC-控制系统 (Microsoft Windows CE)体积10.5L真空腔室玻璃材质、? 211 mm、长 300 mm样品支架1个样品支架气源2 个由针型阀控制的气体通道2 个由 MFCs 控制的气体通道2 个由 MFCs 控制的气体通道高频电流发生器40 kHz/200 W 或者 13.56 MHz/50 W 固定搭配真空泵5 m3/h外尺寸宽 525 mm、高 275 mm、深 450 mm电源电压AC220V

Diener PlasmaBeam 等离子表面处理装置

Diener PlasmaBeam 等离子表面处理装置

  • 品牌: 德国Diener
  • 型号: Diener PlasmaBeam
  • 产地:德国
  • Diener,PlasmBeam,PlasmBeam PC,PlasmBeam大气压等离子清洗机 PlasmBeamPlasmBeam PCPlasmBeam DUOApplications: Rubber Electronic PlasticsCables-Tules效果:PlasmaBeam清洗过的区域,喷水后没有残留水滴。更多应用请来电咨询:021-61552797底材:铝底材:塑料参数:型号PlasmBeamPlasmBeam PCPlasmBeam DUO发生器频率与功率20kHz,300W20kHz,300W20kHz,600W反应气休/冷却气体无油空压机无油空压机无油空压机气体压力5-8bar5-8bar5-8bar气体流量2m3/h2m3/h4m3/h离子束手柄单只直径32mm长度270mm重量0.6kg电缆长度3m,Φ19mm(可订制)处理的最大宽度为12mm两只其它参数同前操作模式手动控制/远程控制MS-Windows控制无有无电源AC230V/6A/50~60Hz尺寸(mm)W562*H211*D420W562*H360*D650W562*H211*D420重量(KG)203020

PCE-8等离子清洗机

PCE-8等离子清洗机

  • 品牌: 沈阳科晶
  • 型号: PCE-8
  • 产地:
  • PCE-8等离子清洗机是一款较大型的等离子清洗机,等离子腔体为Φ8.5"×12"的石英腔体,采用的射频电源功率0-100W连续可调节。本机主要是通过空气、氧气或氩气等气体的等离子体来去除基片上的氧化层和污染物,同时也可改变物体表面的性质(如亲水和疏水性等),对于基片的清洗以及薄膜处理是较为理想的设备。主要特点1、采用6″彩色触摸屏,可控制射频功率、清洗时间、气体流量、真空泵的开启等。2、内部配有0-500mm/min的质量流量计,可以精确地控制进气流量。技术参数1、电源:AC220V2、射频功率:最大100W,可在0-100W间调节3、真空泵功率:<500W4、总功率:<600W5、射频:13.56MHz6、等离子腔体:高纯石英腔体,外径Φ8.5",内径Φ8.2",长12",采用铝制折叠式法兰进行真空密封,法兰设有一个 Φ60mm的观察窗口7、极限真空度:50mtorr8、通入气体:可通入多种气体,如N2、Ar、Air、H2、O2和混合气体等等(根据材料性质所定)清洗及蚀刻产品规格尺寸:620mm×450mm×600mm标准配件1、直连式双旋真空泵(240L/min)2、KF25波纹管3、KF25手动挡板阀可选配件1、300W、600W射频电源(进行等离子刻蚀和等离子灰化等实验)2、2″-6″石英舟(盛放基片)3、2-4通道浮子混气系统4、2-4通道质子混气系统

PCE-6V小型等离子清洗机

PCE-6V小型等离子清洗机

  • 品牌: 沈阳科晶
  • 型号: 小型等离子清洗机
  • 产地:
  • PCE-6V小型等离子清洗机集成了RF等离子体发生技术、计算机控制技术、软件编程技术,采用气体作为清洗介质,有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。工作时外接一台真空泵,清洗腔内的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面,可短时间内彻底清洗掉有机污染物,清洗程度可达到分子级。另外,其样品台可选配加热功能,可加负偏压,用以实现离子蚀刻。此外,其可在特定条件下根据需要改变某些材料表面的性能。主要特点1、采用气体作为清洗介质,避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。2、可短时间内彻底清洗掉有机污染物。3、清洗程度可达到分子级。4、可在特定条件下根据需要改变某些材料表面的性能。5、清洗过程中的辉光放电可对某些特殊用途的材料加强粘附性、相容性和浸润性,并可消毒和杀菌。6、样品台可选配加热功能,可加负偏压,用以实现离子蚀刻。7、广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。技术参数1、电压:AC220V 10A2、消耗功率:<500W(包括真空泵)3、RF电源:输出功率100W,输出频率13.56MHz4、腔体:Φ190mm×98mm5、石英管:Φ180mm×55mm,壁厚7mm6、内腔:Φ165mm×55mm7、清洗电极:Φ120mm8、样品台:Φ150mm,有效尺寸Φ140mm9、样品台与电极间距:15mm-50mm可调10、抽气管:Φ12mm11、极限真空度:0.1Pa12、工作真空度:60Pa-500Pa13、气路数量:2路(选装)14、流量控制器数量:1、215、流量显示仪:2通道16、气路接口:Φ6mm17、加热样品台:Φ140mm,加热样品温度RT-600℃±1℃(选装)18、冷却水压力:0.2KPa-0.4KPa19、工作环境:温度5℃-35℃,湿度<80%(相对湿度)不结露,海拔高度0-2000m产品规格尺寸:245mm×235mm×460mm(不含真空泵)重量:20kg(不含真空泵)可选配件1、加热样品台2、流量控制器(量程10、50、100,最多可增加2个通道)

气体等离子系统 IoN Wave 10

气体等离子系统 IoN Wave 10

  • 品牌: 德国PVA TePla
  • 型号: IoN Wave 10
  • 产地:德国
  • PVA是历史悠久的德国高科技上市公司,在等离子体、真空系统、晶体生长等领域占据世界领先地位;PVA TePla是PVA的一个部门,专业制造等离子清洗机,广泛应用于电子,塑料,橡胶,玻璃等各种材料清洗及表面处理。作为生产等离子体处理设备的专家,PVA TePla可为半导体行来提供等离子体清洗设备和服务。IoN Wave 10Gas Plasma System气体等离子系统实验室或中试规模的台式微波系统的理想选择,阻灰化,晶圆清洗和开封的电子设备。

等离子清洗系统 PS 400, PS 400 H2

等离子清洗系统 PS 400, PS 400 H2

  • 品牌: 德国PVA TePla
  • 型号: PS 400, PS 400 IL, PS 400 H2
  • 产地:德国
  • PVA是历史悠久的德国高科技上市公司,在等离子体、真空系统、晶体生长等领域占据世界领先地位;PVA TePla是PVA的一个部门,专业制造等离子清洗机,广泛应用于电子,塑料,橡胶,玻璃等各种材料清洗及表面处理。作为生产等离子体处理设备的专家,PVA TePla可为半导体行来提供等离子体清洗设备和服务。PS 400微波等离子清洗系统400系列芯片载体清洗PS 400 IL微波等离子体系统的400系列芯片载体清洗PS 400 H2微波等离子体系统的400系列芯片载体与氢气发生器清洗

等离子清洗系统 GIGA 690

等离子清洗系统 GIGA 690

  • 品牌: 德国PVA TePla
  • 型号: GIGA 690
  • 产地:德国
  • PVA是历史悠久的德国高科技上市公司,在等离子体、真空系统、晶体生长等领域占据世界领先地位;PVA TePla是PVA的一个部门,专业制造等离子清洗机,广泛应用于电子,塑料,橡胶,玻璃等各种材料清洗及表面处理。作为生产等离子体处理设备的专家,PVA TePla可为半导体行来提供等离子体清洗设备和服务。GIGA 690微波等离子系统芯片载体清洗

等离子清洗系统 GIGA 80 Plus

等离子清洗系统 GIGA 80 Plus

  • 品牌: 德国PVA TePla
  • 型号: GIGA 80 Plus
  • 产地:德国
  • PVA是历史悠久的德国高科技上市公司,在等离子体、真空系统、晶体生长等领域占据世界领先地位;PVA TePla是PVA的一个部门,专业制造等离子清洗机,广泛应用于电子,塑料,橡胶,玻璃等各种材料清洗及表面处理。作为生产等离子体处理设备的专家,PVA TePla可为半导体行来提供等离子体清洗设备和服务。GIGA 80 Plus全自动微波等离子清洗机的个别基板。适用嵌入式解决方案或独立的工具产品信息: 80 Plus GIGA HS: PVA TePla在微晶片封装方面提供的半导体业改革产量方面的业界新标准:高收率支持 100x300mm 框架在SEMICON Taiwan 2012展出(基希海姆慕尼黑, 2012年10月19日)-PVA TePla位于基希海姆/慕尼黑的等离子系统事业部在2012年台湾SEMICON公布了下一代的片式处理等离子系统 (支持100x300mm的框架-高速等离子系统, 在产量方面树立了业界的新标准。80 Plus High Speed (HS)正在申请专利, 对比与其他框架和基板片式处理等离子系统, 该设备是世界上唯一一个单腔体支持片尺寸转换, 运输和处理并提升了3倍UPH的设备。<该系统针对大批量的芯片制造商在引线键合前, 塑封前, 倒装片底部填充前等应用中提升收率和可靠性。80 Plus支持射频(RF)和微波(MW)技术, 各根据客户的需求提供最佳的工艺解决方案。在半导体微芯片封装中, 引线键合前通过等离子提高焊盘清洁度是必不可少的。通过等离子清洗, 球剪切力和线拉力的改善是非常显著的。等离子清洗和活化作用可应用于提高塑封料的粘合, 消除因为分层引起的收率损失。在倒装片工艺中, 底部填充前微波等离子清洗已经成为提高收率必不可少的工艺。先进的倒装片产品在市场中越来越重要, 微波等离子在处理芯片底部超小空隙上是无与伦比的。

SEMI-KLEEN 等离子清洗仪

SEMI-KLEEN 等离子清洗仪

  • 品牌: 美国PIE
  • 型号: SEMI-KLEEN
  • 产地:美国
  • 美国PIE公司出品的SEMI-KLEEN 等离子清洗仪, 可清洗各种类型电子或者离子显微镜,深紫外光刻机,电子光刻系统等真空仪器。一个仪器同时清洗真空腔体和样品。本仪器由一个LCD触摸屏控制器和一个远程射频(RF)等离子源组成,远程等离子源通过一个KF40真空法兰连接到待清洗真空室,有转接法兰提供。主要用于清洗各种扫描电镜(SEM),透射电镜(TEM),聚焦离子系统(FIB),离子显微镜(HIM)等真空系统中碳氢及其他污染。同时清洗真空腔体和样品。特有功能优越的等离子技术,可以在小于0.1毫托的气压下点火并且保持稳定的等离子体。最低工作气压比其他同类产品低10到100倍。低气压清洗速度更快,更均匀,对电子枪和分子泵更安全;即时等离子起辉技术。不用像在其他同类产品上那样担心等离子是不是成功起辉;带气压计的自动气体流量控制;等离子探针实时测量等离子强度,用户可以根据这个实时反馈来优化清洗配方;自动射频匹配实时保证最优化射频耦合,即使用户调节清洗配方;专利保护的双层颗粒过滤器设计保证我们的产品满足Intel,台积电,三星等半导体用户的严格颗粒污染要求;带LCD触摸屏的直观操作界面;微电脑控制器带可修改的智能清洗计划,设好就自动清洗您的系统;支持清洗配方,一键开始,自动射频匹配,自动控制气体流量;微电脑控制器记录所有信息状态,便于系统维护。技术指标 等离子源真空接口: NW/KF40 法兰; 提供转接法兰;标配等离子强度传感器;等离子源最低点火起辉气压:<0.1毫托;等离子源最高工作气压: >1.0 托;漏气率: <0.005sccm;射频输出: 0~100瓦,连续可调节;具有射频自动匹配功能

等离子清洗机PE-50XL

等离子清洗机PE-50XL

  • 品牌: 美国Plasma Etch
  • 型号: PE-50XL
  • 产地:美国
  •        等离子体清洗机除了具有超清洗功能外,在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能:PE-50XL等离子体清洗机的等离子体作用于材料表面,使表面分子的化学键发生重组,形成新的表面特性。对某些有特殊用途的材料,在超清洗过程中等离子体清洗机的辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和浸润性,并可消毒和杀菌。广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。设备型号:PE-50XL1.处理腔体1.1腔内尺寸:宽度 190mm x 深度222mm x 高度89mm;1.2腔体材质:6061-T6 航空特种铝材;1.3腔体外配有观察视窗(View port) ,可监视工艺处理状况;1.4等离子体导入以平面多孔设计,以达等离子体均匀分布;1.5 腔体容积:6.29升;2.电极装置2.1水平处理电极,宽度178 x 深度203mm;3.射频电源3.1射频频率:13.56MHz;3.2射频功率:0-125W 连续可调;3.3配有自动匹配网络,可自动调谐达到射频匹配最佳输出功率和最小反射功率,该射频发生器可同时显示前向与反射功率;4.真空泵浦4.1采用JB双头真空油泵,抽气速率:8 m3/hr;4.2可处理氧气,氩气,氮气,空气等气体;5.流量控制5.1真空范围: 1~2000mTorr;5.2二套旋转浮子流量计,流量范围:0-25 cc/min;5.3  PLC控制系统:键盘用户界面,数显控制。选配:1、150W,50KHz;2、400W,50KHz;3、300W,13.56 MHz;(自动匹配网络);4、Venus PC控制功能,可以通过MFC控制气体;

等离子清洗机Plasma Wand

等离子清洗机Plasma Wand

  • 品牌: 美国Plasma Etch
  • 型号: Plasma Wand
  • 产地:美国
  •        PE公司成立于1980年,致力于提供电子行业用的等离子设备及相关服务。通过几十年的发展,公司发展成为提供等离子设备方面的专家,可为客户提供专业的产品和解决方案,先后众多知名企业提供等离子处理设备:美国宇航局NASA, 美国波音Boeing,著名的电子保安系统产品制造商美国霍尼韦尔Honeywell,美国摩托罗拉Moto, 德国拜耳Bayer,世界军用飞机的领军企业美国洛克希德马丁Lockheed-Martin等等。       Plasma Wand是一款可以握在手中操作的等离子体发生设备,无需外部气体,只需接通电源即可工作运行。PlasmaWand是一款完美的小型设备,适用于研究所,大学的实验室,或者任何需要小型等离子设备的场合。      Plasma Wand手持压电冷等离子发生器,压电技术--基于压电变压器直接放电,同时在元件的输出端直接产生冷等离子,等离子通过电离空气或气体来形成。Plasma Wand非常适合大样品焊接或粘合前的表面清洗和表面活化处理,是一体化等离子装置,虽然简单却可以提供多种功能的解决方案,同其他等离子系统一样,提供一致的和可重复的结果。 Plasma Wand喷嘴包括:1.标准喷嘴:用于清洗塑料、橡胶和绝缘材料;2.近距离喷嘴:用于清洗金属和导电材料;3.多组分气体喷嘴:使用氩气或氦气作为输入气体。标   准   配   置重量6盎司/170克发生器30w集成电源气体输入空气/氩气/氦气等离子体温度< 50℃工作距离5~10mm处理宽度5~20mm性能特点• 高效激发冷等离子体• PDD®压电技术直接放电,低输入电压、高输出电压• 等离子功率密度高• 产生温度<50°C冷等离子体•不需外部气体供应• 设计精巧,使用简单• 运行可靠• 最佳效率• 可变喷嘴• 免维护低压应用:表面活化:实验室技术、牙科技术、模型建造和精密工程、微观力学和光学、装备工艺和电子产品。减少细菌:微生物学、食品技术、医疗技术、微观流体技术,制药行业,生命科学,空间灭菌,气味中和与减少。自动加工、印刷和贴标签:喷墨打印、微编码、自动化过程的润湿工艺流程。等离子自身温度低于50℃,几乎适合处理任何温度敏感材料的表面。例如汽车内饰织物的表面处理,食品加工和医疗器械的消毒。甚至包括伤口的直接处理等。提高和增强活化性能:胶粘性 疏水性 亲水性 润湿性 吸湿性 阻隔性 阻燃性 低摩擦 防刮擦 防磨损 抗腐蚀 防雾性 防扩散 防脱落 防掉漆 防缩性 防皱性 防静电 防菌 防尘 表面张力 去除氧化物 杀菌消毒

真空式等离子处理系统

真空式等离子处理系统

  • 品牌: 深圳诚峰
  • 型号: CRF-VPO-8L-S
  • 产地:深圳
  • 超大处理空间,提升处理产能,采用PLC+触摸屏控制系统,精确的控制设备运行。 可按照客户要求定制设备腔体容量和层数,满足客户的需求。 保养维修成本低,便于客户成本控制。 高精度,快响应,良好的操控性和兼容性,完善的功能和专业的技术支持。

真空等离子处理机

真空等离子处理机

  • 品牌: 深圳诚峰
  • 型号: CRF-VPO-MC-6L
  • 产地:深圳
  • 超大处理空间,提升处理产能,采用PLC+触摸屏控制系统,精确的控制设备运行。 可按照客户要求定制设备腔体容量和层数,满足客户的需求。 保养维修成本低,便于客户成本控制。 高精度,快响应,良好的操控性和兼容性,完善的功能和专业的技术支持。

常压等离子清洗机

常压等离子清洗机

  • 品牌: 深圳诚峰
  • 型号: CRF-APO-DP1010-D
  • 产地:深圳
  • 可选配多种类型喷嘴,使用于不同场合,满足各种不同产品和处理环境; 具有RS485/232数字通讯口和模拟量控制口,满足客户多元化需求。 设备尺寸小巧,方便携带和移动,节省客户使用空间; 可In-Line式安装于客户设备产线中,减少客户投入成本; 使用寿命长,保养维修成本低,便于客户成本控制;

大气旋转等离子清洗机

大气旋转等离子清洗机

  • 品牌: 深圳诚峰
  • 型号: CRF-APO-RP1020-D
  • 产地:深圳
  • 可选配多种类型喷嘴,使用于不同场合,满足各种不同产品和处理环境; 具有RS485/232数字通讯口和模拟量控制口,满足客户多元化需求。 设备尺寸小巧,方便携带和移动,节省客户使用空间; 可In-Line式安装于客户设备产线中,减少客户投入成本; 使用寿命长,保养维修成本低,便于客户成本控制;

(常压)大气旋转等离子清洗机-小型等离子清洗机详情

(常压)大气旋转等离子清洗机-小型等离子清洗机详情

  • 品牌: 深圳诚峰
  • 型号: CRF-APO-MP1030-D
  • 产地:深圳
  • 可选配多种类型喷嘴,使用于不同场合,满足各种不同产品和处理环境; 采用磁动力作为动力源,使用寿命长,耗损低。 具有RS485/232数字通讯口和模拟量控制口,满足客户多元化需求。 设备尺寸小巧,方便携带和移动,节省客户使用空间; 可In-Line式安装于客户设备产线中,减少客户投入成本; 使用寿命长,保养维修成本低,便于客户成本控制;

等离子清洗机

等离子清洗机

  • 品牌: 深圳诚峰
  • 型号: CRF-APO-DP1020-A
  • 产地:深圳
  • 可选配多种类型喷嘴,使用于不同场合,满足各种不同产品和处理环境; 设备尺寸小巧,方便携带和移动,节省客户使用空间; 可In-Line式安装于客户设备产线中,减少客户投入成本; 使用寿命长,保养维修成本低,便于客户成本控制; 主要应用于电子行业的手机壳印刷、涂覆、点胶等前处理,手机屏幕的表面处理;国防工业的航空航天电连接器表面清洗;通用行业的丝网印刷、转移印刷前处理等。

等离子设备

等离子设备

  • 品牌: 深圳诚峰
  • 型号: CRF-APO-DP1010-A
  • 产地:深圳
  • 可选配多种类型喷嘴,使用于不同场合,满足各种不同产品和处理环境; 设备尺寸小巧,方便携带和移动,节省客户使用空间; 可In-Line式安装于客户设备产线中,减少客户投入成本; 使用寿命长,保养维修成本低,便于客户成本控制;

自动On-Line(轴轮式)式AP等离子处理系统

自动On-Line(轴轮式)式AP等离子处理系统

  • 品牌: 深圳诚峰
  • 型号: CRF-APO-500W
  • 产地:深圳
  • 配置专业运动控制平台,PLC+触摸屏控制方式,采用精准运动模组,操作简便; 可选配喷头数量,满足客户多元化需求; 配置专业集尘系统,保证产品品质和设备的整洁、干净;

等离子表面处理机

等离子表面处理机

  • 品牌: 深圳诚峰
  • 型号: CRF-APO-200P
  • 产地:深圳
  • 配置专业移动平台,一键式控制启动,操作简单; 可配置特制平台,满足客户多元化需求; 可选配增加低温处理系统,处理温度可达45℃以下

线性(宽幅)等离子清洗机

线性(宽幅)等离子清洗机

  • 品牌: 深圳诚峰
  • 型号: CRF-APS-500W
  • 产地:深圳
  • 应用于FPC&PCB表面处理,复合型材料,玻璃,ITO等行业领域的表面处理; 首创超低温处理过程,处理温度可< 35℃以下; 专利设计的内置式冷却系统,提高和保证设备的使用寿命和性能;

普奇多功能管道清洗机QX-I型

普奇多功能管道清洗机QX-I型

  • 品牌: 湖南普奇
  • 型号: QX-I
  • 产地:长沙
  • 普奇管道清洗机适用于热水器、自来水管、空调清洗以及其他各种易结垢、易污染、易堵塞以及需要经常清理和维护的管道。操作简单,应用市场大,适合广大想寻找创业项目的客户朋友。

美国Tergeo-Plus 等离子清洗机

美国Tergeo-Plus 等离子清洗机

  • 品牌: 美国PIE
  • 型号: Tergeo-Plus
  • 产地:美国
  • 一、Tergeo系列等离子清洗机应用等离子清洗机清除样品表面的污染物,去除光阻胶:产生表面活性功能组;清洗提高材料表面亲水性及疏水性,清洗生物芯片、微流控芯片,PDMS;表面活化:渲染表面的亲水性或疏水性,键合和沉积前的表面预处理表面聚合:沉积带官能分子团的聚合物,移植聚合物到活化后的材料表面;表面改性:在材料表面产生官能分子团,高分子材料表面修饰;去除表面残留微生物,医疗器械的消毒和杀菌;二、Tergeo系列等离子清洗机的特点1、13.56MHz高频射频发生器;2、7英寸触摸屏控制界面,全自动操作;3、标配75W版本,可选150W版本;4、系统具有双等离子源。浸入式等离子源用于主动表面处理、光刻胶蚀刻。远程式等离子源用于温和的污染清除以及脆弱易损样品的表面活化。三、技术参数1、控制系统1)操作界面:7英寸电阻触摸屏操作界面,支持多种工作方式。 2)程序控制:可编程,总共有20个程序,每个程序有3个清洁步骤。2、反应腔体1)腔体材质:圆柱形石英玻璃舱;2)腔体容积:5.6L; 3)腔体尺寸:内径:160毫米,深度:280毫米。 3、射频电源 1)射频频率:13.56MHz;2)射频功率:标配0~75W;从0瓦到75瓦之间以1瓦间距连续可调,可选0~150W;。4、等离子源1)等离子强度探测器实时测量等离子源强度。2)外置电极设计,高压电极不合等离子接触以避免金属溅射造成的样品污染。5、气体控制 1)气路控制:标配一路MFC;可选配三路MFC; 2)质量流量计可以在0~100sccm之间控制气体流量; 3)一路(Venting and purging)气体入口用来快速给样品室放气和冲走残余处理气体。

3”等离子清洗机--PDC-36G

3”等离子清洗机--PDC-36G

  • 品牌: 合肥科晶
  • 型号: PDC-36G
  • 产地:
  • PDC-36G等离子清洗机是一种紧凑型、低成本的等离子清洗机。使用空气、氧气、氩气等离子去除纳米级有机物污染。在射频电源的作用下,去除速率最大每分钟10纳米。在单晶材料外延薄膜生长以前进行预处理,对生长具有显著的作用。技术参数主要特点结构紧凑、桌上型仪器;使用可调射频电源;可以设置功率为低、中、高级别;低成本、环境友好、操作安全。参数输入电压:110/220,50/60Hz,小于100W(请在订货时说明);输出频率:13.56MHz;等离子直流电源:低功率设定:直流680V,10mA,6.8W;中功率设定:直流700V,15mA,10.5W;高功率设定:直流720V,25mA,18W;等离子腔室:直径75mmx长165mm,耐热玻璃前盖可以拆卸。真空泵和阀的要求:a,大于每分钟160L b,极限压力:200mtorr或者0.27mbar c,可以选择数字真空表 d,针阀控制气体流量 e,采用三通阀门快速控制进气、密封等离子腔室、排气气体:多种气体可以用于等离子清洗,例如氮气、氩气、空气、混合气体,主要取决于处理何种材料。警示:不能使用可燃性气体。外形尺寸:200mmx250mmx210mm8、净重:(不含泵)8kg可选真空计(点击图片查看详细资料)可选本公司生产研发的电阻真空计此款真空计是以Pirani电阻规在不同真空环境下体现的热传导特性为原理而研发的一款低真空测量仪器,特别适应于从常压到0.1Pa非腐蚀性气体环境的真空度测量。等离子清洗及刻蚀的方法 质保期一年质保期,终身维护操作视频等离子清洗器

等离子清洗机

等离子清洗机

  • 品牌: 美国Gatan
  • 型号: 950
  • 产地:美国
  • 仪器简介:SolarusTM(型号950)高级等离子清洗系统 SOLARUS - 全新先进等离子体清洗系统,去除碳氢化合物对TEM和SEM样本载台或样品的污染。Solarus是新一代等离子系统,其改造的新概念和最新技术令它具有更佳的性能,操作简便和良好的清洗效果。与市面上其他任何等离子清洗体系统相比,Solarus能提供最有效的清洗效果。 SOLARUS具有明确的区别特点: 1. 专用化学气体H2/O2(专利申请)。 这一独特优势,化学清洗时能减少溅射损伤所有样品,甚至可以清洗多孔碳膜。与传统Ar/O2气体清洗相比,使用H2/O2气体清洗还可以进一步延长样品的冷冻状态保持时间。 2. 交互式触摸屏提供预先编程的气体配比,优化工艺参数,具有更好的一致性和可重复性。 3. 实时RF自动匹配和可变RF电源(10W-65W) 能确保在任何清洗条件下,提供最适宜的等离子体功率,损坏最小。 4. 质量流量控制器(MFC)提供准确的气体控制量,使等离子体清洗机性能长期稳定,具有H2, O2和 Ar三个独立的组分通道。 5. 通过前面两个插口多功能腔体能接受两个透射电镜样品杆,同时打开顶部的盖子能装入多种扫描样品。 6. 涡轮泵系统不停运行使整体循环速度提高几倍。 泵 - 50秒 VS竞争对手的3分钟;通风 - 5秒VS竞争对手的6分钟。 7. 多语言系统操作指令包括英语、德语、法语、中文、韩语、日语。 Solarus独特的设计提供更好的性能和更高的生产量: 1. 改进温和清洁,没有溅射; 2. 优异的重复性; 3. 清洁参数适应性更多,可适用于更多种类的材料; 4. 更快的清洗速率使得其有更高的清洗数量。 等离子体清洗机的优点: - 增强成像能力(低电压) - 化学微量分析时提高精度 - EDX和EBSD 有更长时间的读取和获取次数 STEM和EELS分析必须使用较小尺寸探针

Diener PICO 等离子清洗机

Diener PICO 等离子清洗机

  • 品牌: 德国Diener
  • 型号: PICO
  • 产地:德国
  • Pico 等离子设备能够以不同的形式进行整合,例如以模块系统的形式。在下文中您可以大致了解能够与 Pico 等离子系统一同使用的最常见的选装件。Pico 等离子系统主要应用于以下领域:小批量生产分析 (REM, TEM)医疗技术灭菌研究和开发部门考古纺织技术塑料技术规格,参数:系列Pico系列控制系统半自动型PCCE 控制系统 (MicrosoftWindows CE)PC 控制系统 (Microsoft Windows POS Ready 2009)体积4~15L真空腔室圆形不锈钢件,配有盖子(大约Φ 150 mm, 长 320 mm 或者长 600 mm)或者矩形不锈钢件,配有铰链的门(约宽 160 mm x 高 160 mm x 深 325 mm 或者 600 mm)配有盖子的圆形铝材,或者配有铰链的门(大约Φ 130 mm, 长 300 mm 或者长 600 mm)配有盖子的圆形石英玻璃 (UHP),或者配有铰链的门(大约Φ 130 mm, 长 300 mm 或者长 600 mm)配有盖子的圆形硼硅玻璃 (UHP),或者配有铰链的门(大约Φ 130 mm, 长 300 mm 或者长 600 mm)电极单层或多层RIE样品支架(选项:水冷型)、石英玻璃舟皿、粉末转鼓、散装件转鼓、铝板、不锈钢板、硼硅玻璃、石英玻璃气源针型阀质量流量控制器 (MFCs)压力计PiraniBaratron(适用于腐蚀性气体版本)计时器数字型高频电流发生器40 kHz: 功率 0 - 200 W;0 -1000 W13.56 MHz: 功率 0 - 50 W;0 - 100 W;0 - 300 W2.45 GHz: 功率 0 - 300 W所有发生器均为 0 - 100% 无级可调型真空泵KASHIYAMA电源台式设备为 230 V,立式设备为 400 V/3 相位其他选项备件套件、压力计、腐蚀性气体设计结构、气瓶、减压器、加热板、温度显示器、加热型腔室、Faraday Box、等离子体聚合配件、测试墨水、 氧气发生器、慢速通风装置、慢速抽吸装置、TEM样品架法兰、维护/服务、当地语言的文件、现场安装,包括培训。可应要求提供的其他选项。

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